2015年05月25日
【アジア】信越化学工業 フォトレジスト関連事業の拡大で台湾に工場を新設
信越化学工業は、フォトレジスト関連事業の拡大をめざし、台湾に工場を新設する。現在、台湾当局に建設許可を申請しており、許可が取れ次第、建設工事に着手する。工期は１年程度、投資金額は約１３０億円を見込む。フォトレジストは、半導体デバイスの製造に欠かせない感光性の樹脂。シリコンウエハーにレーザー光などの光を照射し、集積回路を焼き付ける露光工程で使われる。
フォトレジスト関連製品の需要は、半導体デバイスの生産量の増加や微細化の進展により、アジアとアメリカで伸びている。信越化学は、需要地の一つである台湾で生産を行うことで、フォトレジストの需要の伸びを着実にとらえていく。また、従来の直江津工場と併せフォトレジスト関連事業で２つの生産拠点を持つことでリスクの分散を実現し、事業の更なる強化を進めていく。
※ 製品名および会社名は、各社の商標または登録商標です
投稿者：gotsuat 09:43| アジア
