2015年03月03日
【アジア】昭和電工 韓国で半導体製造使用ガスの製造拠点増強し供給能力を拡大
昭和電工は、半導体製造用特殊ガスのひとつである高純度亜酸化窒素の供給能力を拡大する目的から、韓国の斗岩産業と共同で、ソウル近郊の同社工場内に精製設備を建設していたが、今回設備が完成し、２０１５年３月より本格的に運転を開始する。高純度亜酸化窒素は、半導体CVDプロセスでの絶縁酸化膜形成用ガスとして使用される特殊ガスであり、アジア地区での半導体用途での需要は年率１０％以上の拡大が見込まれる。また、近年はディスプレイ製造時の酸化膜の酸素源としての用途も拡がっており、高純度亜酸化窒素の需要拡大にあわせ、昭和電工グループの供給体制を強化した。
今回の拠点増強により、昭和電工グループの高純度亜酸化窒素供給能力は、同社川崎事業所における年間生産能力１，２００トンと、韓国での生産能力６００トンを加えた１，８００トンに増強される。
昭和電工では、現在推進中の中期経営計画”PEGASUS（ペガサス）”フェーズIIにおいて、高純度アンモニアをはじめとする半導体高純度ガスを成長事業に位置づけている。今後、アジア地区を中心にグローバル展開をさらに推進し、拡販に注力していく。
※ 製品名および会社名は、各社の商標または登録商標です
投稿者：gotsuat 09:33| アジア
